近年オゾン層の破壊により、地上に降り注ぐ紫外線（UV）の悪響を防御するためにUVケア化粧品が注目されている。UV-Aは肌の真皮層にまで到達し、シワやたるみといった肌の劣化を起こす原因となる。しかし、多くのUV-A吸収剤は、安定性が十分ではなく、こまめな塗り直しが必要とされている。そこで本研究では、化粧品に含まれるUV-A吸収剤 ｔ-ブチルメトキシジベンゾイルメタン（BMB）について、逆相HPLC法を用いた定量分析を行った。また、UV-A照射した後、BMBを定量することにより、BMBの安定性の評価を行った。
